摘要
ENPI 200系列是一种碱性显影用的负型光阻剂,应用于lift-off制程使用。
特性
●附着性佳
●去除性佳
●安全溶剂
研磨浆料 ESR236
摘要
组成:分散均匀的球型粒子以及特殊的配方组成。
特性:抛光液有更快速的研磨速度,并且提升抛光布的使用寿命。循环式或非循环式制程皆适合使用。
用途:ESR 236在20~30倍稀释后,适用于硅片抛光的第1阶段、第2阶段抛光,可达到极佳的抛光表面,减少最后段精抛成本、并提高良率。
研磨浆料 ESR301
摘要
组成:分散均匀的球型粒子以及特殊的配方组成。
用途:稀释1~2倍后,适合于Sapphire、LiNbO3 和 LiTaO3.…等晶圆的抛光。
特性:ESR 301有高速的磨除速度并达到良好的抛光表面,可回收循环使用,在高温下能保持其稳定性,可用于陶瓷基板晶圆前段抛光。ESR 303的抛光参数容忍范围大,可用于前段抛光,亦适合用于最后段的精细抛光,可达到近完美的抛光表面。
研磨浆料 ESR303
摘要
组成:分散均匀的球型粒子以及特殊的配方组成。
用途:稀释1~2倍后,适合于Sapphire、LiNbO3 和 LiTaO3.…等晶圆的抛光。
特性:ESR 301有高速的磨除速度并达到良好的抛光表面,可回收循环使用,在高温下能保持其稳定性,可用于陶瓷基板晶圆前段抛光。ESR 303的抛光参数容忍范围大,可用于前段抛光,亦适合用于最后段的精细抛光,可达到近完美的抛光表面。
研磨浆料 ESR501
摘要
组成:分散均匀的球型粒子以及特殊的配方组成。
用途:稀释1~2倍后,适合于各类不锈钢材的镜面抛光加工。
特性:ESR 501不会在钢材表面造成额外的腐蚀伤害,并可以快速达成镜面抛光加工。
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